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苏州嘉励2.5D程控条纹光一体化解决方案，轻松检测小划痕、浅凹痕、异物和污渍等多种缺陷
如何利用图像成像技术，在复杂背景和不均匀光照的干扰下，有效并稳定地捕捉及呈现产品上的缺陷?对高反光/透明工件表面细微缺陷检测如何满足自动化产线的效率要求?检测2024-11-27 | 中国机器视觉网 |1424 -
针对不同类型的外观缺陷检测光源方案
产品的外观缺陷直接影响着产品的质量问题，而在检测时，由于产品缺陷种类繁多且干扰因素众多，导致产品的外观缺陷检测一直是机器视觉检测中的难点。检测2024-11-18 | 中国机器视觉网 |1553 -
一张图看懂光学棱镜的工作原理
我们都知道棱镜主要是一种由：两两相交但彼此均不平行的平面围成的透明物体，用以分光或使光束发生色散；棱镜不仅可以使光线偏移，还可以用来调整图像方向。 那么棱镜加工分为多少种材料呢？其实棱镜的加工材料有很多种光学玻璃，石英，氟化钙，硒化锌，锗。精工和光学2024-11-05 | 中国机器视觉网 |1623 -
适用于机器人视觉系统的LED光源
工业光源在机器视觉系统中扮演着至关重要的角色，它们直接影响到图像采集的质量以及后续图像处理的效率和准确性。检测2024-10-23 | 中国机器视觉网 |1276 -
哪吒线扫光度立体成像系统像助力2.5D缺陷检测
机器视觉是一个新兴且不断迭代发展的行业，近年来行业内陆续推出了不同角度照明方案、分时频闪成像方案、光谱成像、3D成像等方案，仍然存在难以检测的缺陷类型。如凹凸特征检测并有效识别其特征大小，棱边缺陷检测，有感、无感划痕区分，兼容所有特征的检测等。这些难题，成为了行业内一直难以攻克的问题。检测2024-10-12 | 中国机器视觉网 |1363 -
硅片上的光影贴合——UV-LED曝光系统在晶圆边缘曝光（WEE）中的高效应用
晶圆曝光和光刻工艺是半导体电子器件制程中尤为重要的一个工艺步骤，影响着最终电子元器件的良率和精确度。晶圆曝光的原理将对光敏感的光刻胶均匀涂敷在硅片上，紫外光源发出的光线经特殊聚焦透镜通过掩模版，聚焦到晶圆表面，光刻胶遇光固化，在晶圆表面形成和掩模版一致的像，再去除掉不必要的胶体，晶圆上便会留下所需要的图形结构，即经典的涂布、曝光、显影和刻蚀工艺流程。芯片半导体2024-09-09 | 中国机器视觉网 |2443 -
完美聚光：用于光刻曝光的UV-LED光引擎
LED替代汞灯在紫外光源中的使用已成为大势所趋。友思特先进的 UV-LED-EXP 系统可作为OEM集成、汞灯光刻设备改造或直接定制光路设计和曝光设备，为紫外光源的半导体光刻曝光过程提供近乎完美的光照质量。精工和光学2024-08-20 | 中国机器视觉网 |1318 -
高光谱成像光源，实现对细微色差的分类
光源在机器视觉中的重要性不容小觑，它直接影响到图像的质量，进而影响整个系统的性能。然而自然光LED光源不能完全满足实际需求，比如对细微的色差进行分类，我们就需要考虑红外高光谱光源。检测2024-08-06 | 中国机器视觉网 |1582