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深圳市罗博威视科技有限公司

全自动Wafer2D+3D光学检测机台
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品牌:罗博半导体
型号:RobotSemi 3001
应用领域:传感器,模式识别,图像处理
类别:系统产品
产品详情

可针对集成电路、LED、CMOS、MEMS等器件晶圆进行2D+3D一体化的精密光学检测和量测,兼容2D、2.5D和3D封装类型,兼容封测段晶圆切割前来料检测、切割后Frame上检测、分选后检测等场景。

 系统分为4''&6'',8''&12''两个系列,具备手动/自动上下片、自动光学对焦、自动光学校准、异常自动Review、检测信息统计分析等功能,系统可配置及自动切换2X、5X、10X、20X、50X等多倍率物镜,可实现10μm以上Bump、BGA、光刻槽等量测,0.7μm以上表面异常缺陷检测。支持晶圆Pre-Aligner,Wafer状态及ID自动读取,Barcode自动读取,AI与常规算法切换等功能。系统新料导入时间约2小时,异常样本自动收集、上传。

性能特点
分类项目性能
基本系统产品尺寸及类型8"&12" bare/framed wafer(翘曲<5mm
检验方式及能力2D+3D检测功能,可选配;最小可检测Die Size > 80μm
产品厚度300-1300um
Wafer mappingsImport:  .txt & .xlsx & .dwt
Export: .txt & .xlsx & .jpg
模板版头可根据需要修改,可导入导出
量测3D高度测量范围<3mm
球高球径量测精度球高误差<3μm,球径误差<4μm@5x<10μm@2x
锡球球径范围30-500um
锡球球高范围30-500um
Die的共面性提供4种算法(Peak to PeakPeak to AveragePeak to LMSSeat plane to lowest bump)
UPH12inch4min8inch2.8min (800 Die30 balls/Die)
检测分辨率(检测能力)2x @ 2.7um5x @ 1.1um10x @ 0.55um20x@ 0.28um
检测内容线路、保护层、划伤、污染、残胶、气泡等
缺陷检出率>99.2% @ 2 pixels size defects
缺陷过检率<1.5% @ 2 pixels size defects
检测重复性>99.0% @ 2 pixels size defects
UPH12inch5min8inch3.2min  @ 2x
产品检测范围80μm~15mm
系统稳定性MTBF:平均故障间隔时间(需设备维修)4000h
MTBF:平均故障间隔时间(非设备维修)600h
MTTR:平均修复时间(需设备维修)60min
MTBA:平均无任何障碍时间4h
MTTA:小故障维修时间10min
MTTC:平均变更等待时间typically5min


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